#ae_01#ae_02#ae_03

公司簡介
自2007年成立以來,KED即致力於半導體及電子業濕式機台的設計和製造,提供各式單晶圓製程設備和客製化溼式工作站(Wet Bench),並提供客製化服務。

KED的產品網涵蓋半導體溼製程設備,包括旋塗上光阻機,超音波光阻噴塗機,微粒及助焊劑清洗設備,顯影設備,蝕刻設備以及Metal lift-off去光阻機台。

KED在台灣、深圳、蘇州、北京、日本、馬來西亞等地有合作創建或自建的半導體設備工藝中心,目標是為客戶提供更及時、更全面、更優質的服務,協助客戶共同建立高水準的半導體溼製程工藝。