AST-T03-LC
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上光阻機 (Spin Coater)
- 晶圓全自動上光阻機，適用 8”晶圓凸塊製程，分為晶圓傳送、旋轉塗佈及烘烤區。
- 可提供二種光阻不同膜厚製程。光阻利用高壓瓶或精準微量 pump 供應，輸出光阻量精確可達 0.1 CC。
- 配備光阻噴膠頭及腔體潤濕系統，避免光阻粉塵，維持製程最高潔淨度。
- 上光阻腔體，易拆、易洗及容易安裝特性、縮短預防保養時間，減輕設備工程師負擔。
- 各模組可獨立運行，可進行主程式流程和各站子程式的編輯。
- 圖形化對應操作介面，操作簡單，維護方便。
- 機台分為兩大主體結合，一為傳送和上光阻模塊，另一為冷熱烤盤模塊。
規格說明
- 機械人手臂自動取放片，晶片尋邊置中，自動coating光阻和軟烤冷卻。
- 光阻塗佈程式的參數有光阻管路、轉速、加速度、對應時間、EBR及Exhaust on/off 等。
- Spin speed 範圍在 50~5000 rpm，精準度為 +/-1 rpm。
- 高精密度的熱板溫度控制，控溫範圍在 50~200°C，平均溫控均勻性可達 0.8 °C 內。冷板的控溫能力在 0.2°C 之內。
- 機台潔淨等級為 Class 100 with HEPA。腔體設計無粉塵、光阻回濺、EBR及BSR 回濺等Defect。
- 不同厚度的光阻均勻度在 5% 之內。
- 配備光阻 dummy dispense 功能。
應用範圍
- 凸塊製程上光阻機 (PR/PI)
- RDL 製程光阻
- 助焊劑 Coating
- BARC、SOG Coating
