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關於 積凱
積凱科技自成立以來，即專注於半導體及電子業濕製程設備的設計、開發和製造，擁有數十項先進的製程專利。為客戶提供多尺寸單晶圓（Single Wafer）的各式製程設備和溼式工作台（Wet Bench），並致力提供客製化的服務。
產品 & 服務
GKC的產品網涵蓋半導體 3吋到12吋的晶圓溼製程設備，包括晶圓清洗機、溶劑去光阻機、Metal lift-off去光阻機、薄化蝕刻機、化學蝕刻機、電鍍機、旋塗上光阻機及顯影機等
全球據點
GKC除了深化本土在地經營，並在北京、上海、深圳、蘇州、合肥、長沙、鄭州、吉安、香港、馬來西亞和新加坡等地，攜手優質的半導體設備服務機構，為客戶提供專業、及時、全方位的優質服務，達成客戶建立高水準的半導體溼製程工藝的目標與使命。
GKC Wafer Cleaning Machine Demonstration Video
GKC specializes in semiconductor wet process equipment, and has launched a variety of equipment such as cleaning machines, photoresist removal machines and ultrasonic photoresist coating machines, and provides customized services

積凱科技 晶圓清洗機展示短片

積凱科技股份有限公司專研半導體溼製程設備，推出清洗機、去光阻機及超音波上光阻機等多款設備，並提供客製化服務。

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