關於 積凱
積凱科技自成立以來，即專注於半導體及電子業濕製程設備的設計、開發和製造，擁有數十項先進的製程專利。為客戶提供多尺寸單晶圓（Single Wafer）的各式製程設備和溼式工作台（Wet Bench），並致力提供客製化的服務。
產品 & 服務
GKC的產品網涵蓋半導體 3吋到12吋的晶圓溼製程設備，包括晶圓清洗機、溶劑去光阻機、Metal lift-off去光阻機、薄化蝕刻機、化學蝕刻機、電鍍機、旋塗上光阻機及顯影機等
全球據點
GKC除了深化本土在地經營，並在北京、上海、深圳、蘇州、合肥、長沙、鄭州、吉安、香港、馬來西亞和新加坡等地，攜手優質的半導體設備服務機構，為客戶提供專業、及時、全方位的優質服務，達成客戶建立高水準的半導體溼製程工藝的目標與使命。
GKC Wafer Cleaning Machine Demonstration Video
GKC specializes in semiconductor wet process equipment, and has launched a variety of equipment such as cleaning machines, photoresist removal machines and ultrasonic photoresist coating machines, and provides customized services
積凱科技 晶圓清洗機展示短片
積凱科技股份有限公司專研半導體溼製程設備，推出清洗機、去光阻機及超音波上光阻機等多款設備，並提供客製化服務。
推薦產品
專研半導體濕製程設備，提供客製化服務
熱門商品
單晶圓蝕刻機 (Single Wafer Spin Etcher)
單晶圓濕蝕刻 Spin Processor，適用於 UBM、RDL 、BGBM及各種金屬層的刻蝕，清洗和去膠等工藝流程。
腔體特殊設計，保證化學品回收率，並且一個腔體完成多種液體的蝕 ...
腔體特殊設計，保證化學品回收率，並且一個腔體完成多種液體的蝕 ...
熱門商品
12吋晶圓製造複合機
Metal Lift-Off 設備主要由浸泡槽、剝離槽、清洗槽、晶背蝕刻槽、傳送單元、翻轉單元、控制單元等模組組成，適用於12吋厚膜光阻的去除或光阻上金屬的剝離以及晶背蝕刻和SC1 ...
熱門商品
Metal lift-off去光阻機
濕式光阻去除系統，適用於6吋、8寸、12寸厚膜光阻的去除，依產能可客製2個腔體或4個腔體，在旋轉 spin processor工藝的基礎上結合旋轉浸泡噴流工藝，可實現極難的厚膜光阻 ...
熱門商品
上光阻機 (Spin Coater)
晶圓全自動上光阻機，適用 8”晶圓凸塊製程，分為晶圓傳送、旋轉塗佈及烘烤區。
可提供二種光阻不同膜厚製程。光阻利用高壓瓶或精準微量 pump 供應，輸出光阻量精確可達 0.1 CC。 ...
可提供二種光阻不同膜厚製程。光阻利用高壓瓶或精準微量 pump 供應，輸出光阻量精確可達 0.1 CC。 ...
熱門商品
晶圓清洗機
8-12 Inch 單片晶圓dry-in/dry-out清洗平臺，適用于先進封裝制程的particle、有機、無機、助焊劑等污染物清洗
可選配二流體、megasonic、超高壓噴洗、 ...
可選配二流體、megasonic、超高壓噴洗、 ...
GKC 最新資訊
介紹GKC的最新消息
