晶圓旋轉光阻塗佈機

• 晶圓全自動上光阻機，適用 8”晶圓凸塊製程，分 為晶圓傳送、旋轉塗佈及烘烤區。
• 可提供二種光阻不同膜厚製程。光阻利用高壓瓶或精準微量 pump 供應，輸出光阻量精確可達 0.1 CC。
• 配備光阻噴膠頭及腔體潤濕系統，避免光阻粉塵，維持製程最高潔淨度。
• 上光阻腔體，易拆、易洗及容易安裝特性、縮短預防保養時間，減輕設備工程師負擔。
• 各模組可獨立運行，可進行主程式流程和各站子程式的編輯。
• 圖形化對應操作介面，操作簡單，維護方便。
• 機台分為兩大主體結合，一為傳送和上光阻模塊，另一為冷熱烤盤模塊。