晶圓旋轉光阻塗佈機 產品說明 • 晶圓全自動上光阻機,適用 8”晶圓凸塊製程,分 為晶圓傳送、旋轉塗佈及烘烤區。 • 可提供二種光阻不同膜厚製程。光阻利用高壓瓶或精準微量 pump 供應,輸出光阻量精確可達 0.1 CC。 • 配備光阻噴膠頭及腔體潤濕系統,避免光阻粉塵,維持製程最高潔淨度。 • 上光阻腔體,易拆、易洗及容易安裝特性、縮短預防保養時間,減輕設備工程師負擔。 • 各模組可獨立運行,可進行主程式流程和各站子程式的編輯。 • 圖形化對應操作介面,操作簡單,維護方便。 • 機台分為兩大主體結合,一為傳送和上光阻模塊,另一為冷熱烤盤模塊。 立即詢價