LT-MS-300

桌上型上光阻机

  • 旋转光阻涂布机,适用12”晶圆凸块制程。
  • 手动置片、开/关盖、滴液(dispense)。
  • 4吋触控屏幕,Recipe控制Chuck旋转速度及时间。
  • 机体小巧420(W)*500(D)*454(H),可置于工作台上操作,节省空间。

规格说明
  • 桌上型旋转光阻涂布机
  • 适用于12” Wafer
  • 220V,1相,5A
  • Spin speed 3000 rpm (Max.)
  • 4吋触控屏幕,PLC控制
  • 附真空泵(<70KPa),用于Chuck吸附
  • Recipe: 20 Step 20EA

应用范围
凸块制程上光阻机(PR)

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桌上型上光阻机
旋转光阻涂布机,适用12”晶圆凸块制程。 手动置片、开/关盖、滴液(dispense)。 4吋触控屏幕,Recipe控制Chuck旋转速度及时间。 机体小巧420(W)*500(D)*454(H),可置于工作台上操作,节省空间。
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