WPC-240

半自动芯片清洗机

  • 专业芯片/摄像头模块清洗设备
  • 去除芯片,CMOS本体表面之微尘颗料
  • 二流体喷洗-高速离心脱水

规格说明
技术参数
最大工作盘 Φ 310mm
清洗水供给压力 >2.0Kgf
最大清洗工件 Φ300MM/310mm
清洗水流量设定范围 <4L/min
清洗方式 水气二流体清洗
DI供给洁净度要求 >16MΩ
干燥方式 高速离心脱水(离子风)
洁净压缩空气供给压力 0.45—0.7mpa
工作盘旋转数范围 0--2800 r/min
洁净压缩空气洁净度要求 过滤度在0.01um/99.5%以上超洁净压缩空气,残余油<0.1ppm
离心清洗释出压力 1.5—13.8kg
送风排气容量 3.0m3/min
洁净压缩空气最大消耗量 清洗时:<210L/MIN
洁净纯水最大消耗量 清洗时:<3L/min
设备材料 整机316镜面不锈钢
控制方式 PLC+触摸屏
可清洗颗料最小直径 ≧1um 99%以上
电源 220V 5A 50/60HZ
设备重量 约160KG
设备尺寸 600mm(L)×500mm(W)×1570mm(H)

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专业芯片/摄像头模块清洗设备 去除芯片,CMOS本体表面之微尘颗料 二流体喷洗-高速离心脱水
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