AST-D300
单晶圆显影机
全自动单晶圆显影机，适用于8寸及12寸先进封装制程的涂覆显影制程，特殊结构设计喷涂均匀，快速。
功能说明
- 制程均匀度可用 recipe 调控。
- 单片模式之机况可控制可追溯。
- 特殊流体喷嘴及spin装置设计，保证喷涂均匀
- 制程个别参数易于调整。
- 可控制之药液量使用，能保持每片芯片之相同制程环境。
- 洁净度控制优于批次生产。
- 适用于 wafer dry in / dry out制程。
- 为未来湿式高阶设备之主流机台。
应用范围
适合各式凸块、RDL 及封装制程之光阻显影，先进制程8寸、12寸晶圆显影液 Spray、Puddle 、Spin 及PDB 工艺
